Investigation of changes in the paramets of thin films structures during ion implantation :: IKBFU's united scientific journal editorial office

×

Login
Password
Forgot your password?
Login As
You can log in if you are registered at one of these services:
   
My faith is the belief that happiness will be given to humanity by scientific progress
Ivan P. Pavlov

DOI-generator Search by DOI on Crossref.org

Investigation of changes in the paramets of thin films structures during ion implantation

Author Medvedeva S., Koiva D., Shemuhin A., Cernykh P.
Pages 7-13
Article Download
Keywords X-ray reflectivity, X-ray diffractometry, ion implantation, crystallite size, thickness of thin films
Abstract (summary) In this paper were investigated the change of parameters of structures of thin film during ion implantation. Thickness of thin films before and after ion implantation were investigated by X-ray reflectivity. Also, crystal structure, average crystallite size and lattice constant were investigated by X-ray diffraction. The possibility of using ion implantation technique as method of changing grains size in structures was demonstrated.
References 1. Тетельбаум Д. И. 50 лет исследований в НИФТИ ННГУ в области физических проблем ионной имплантации // Вестник Нижегородского университета им. Н. И. Лобачевского. 2010. № 5 (2). С. 250—259.
2. Вавилов В. С. Некоторые физические аспекты ионной имплантации //УФН. 1985. Т. 145, вып. 2. С. 48—69.
3. Герасименко Н. Н. Наноразмерные структурыв имплантированных полупроводниках // Российский химический журнал. Т. XLVI. 2002. С. 75—88.
4. Ворогушин М. Ф., Глухих В. А., Манукян Г. Ш. Пучковые и ионно-плазменные технологии // Вопросы атомной науки и техники. 2002. № 3 (81). С. 101—109.
5. Yasaka Miho. X-ray thin film measurement techniques // The Rigaku Journal.2012. Vol. 28. № 1. P. 22—34.
6. Боуэн Д. К., Таннер Б. К. Высокоразрешающая рентгеновская дифрактометрия и топография. СПб., 2002.
7. Чернов А. А., Гиваргизов Е. И., Багдасаров Х. С. Современная кристаллография. М., 1980. Т. 3 : Образование кристаллов.
8. Goikhman A., Sheludyakov S., Bogdanov E. Ion beam assisted deposition of novel thin film materials and coatings // Materials Science Forum. 2011. Vol. 674. P. 195.
9. Bruker: innovation with integrity. URL: www.bruker.com (дата обращения:12.04.2014).

Back to the section